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Publication :
Optical emission spectroscopy as a process-monitoring tool in PECVD of amorphous carbon coatings

bul.contributor.advisor-authkeyMantovani, D.|=NB2004025373
bul.contributor.author-authkeyAnooshehpour, Farid|=XX4914566
bul.description.provenancelf spb
bul.identifier.controlNumber1132120903
dc.contributor.advisorMantovani, D. (Diego)
dc.contributor.authorAnooshehpour, Farid
dc.date.accessioned2018-04-24T21:15:21Z
dc.date.available2018-04-24T21:15:21Z
dc.date.issued2016
dc.date.updated2018-04-24T21:15:21Z
dc.description.abstractDans ce projet de recherche, le dépôt des couches minces de carbone amorphe (généralement connu sous le nom de DLC pour Diamond-Like Carbon en anglais) par un procédé de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (ou PECVD pour Plasma Enhanced Chemical Vapor deposition en anglais) a été étudié en utilisant la Spectroscopie d’Émission Optique (OES) et l’analyse partielle par régression des moindres carrés (PLSR). L’objectif de ce mémoire est d’établir un modèle statistique pour prévoir les propriétés des revêtements DLC selon les paramètres du procédé de déposition ou selon les données acquises par OES. Deux séries d’analyse PLSR ont été réalisées. La première examine la corrélation entre les paramètres du procédé et les caractéristiques du plasma pour obtenir une meilleure compréhension du processus de dépôt. La deuxième série montre le potentiel de la technique d’OES comme outil de surveillance du procédé et de prédiction des propriétés de la couche déposée. Les résultats montrent que la prédiction des propriétés des revêtements DLC qui était possible jusqu’à maintenant en se basant sur les paramètres du procédé (la pression, la puissance, et le mode du plasma), serait envisageable désormais grâce aux informations obtenues par OES du plasma (particulièrement les indices qui sont reliées aux concentrations des espèces dans le plasma). En effet, les données obtenues par OES peuvent être utilisées pour surveiller directement le processus de dépôt plutôt que faire une étude complète de l’effet des paramètres du processus, ceux-ci étant strictement reliés au réacteur plasma et étant variables d’un laboratoire à l’autre. La perspective de l’application d’un modèle PLSR intégrant les données de l’OES est aussi démontrée dans cette recherche afin d’élaborer et surveiller un dépôt avec une structure graduelle.fr
dc.description.abstractThe production of amorphous carbon coatings or as commonly known as diamond like carbon (DLC) coatings, using the plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method is studied through optical emission spectroscopy (OES) as a plasma diagnostic technique and the partial least square regression (PLSR) statistical method. The objective is to establish a model to predict DLC properties independent of reactor-related parameters, in order to be used in any other similar deposition process. Therefore the model correlates the deposited coating properties to plasma parameters derived from OES. The OES derived data carries a variety of information about plasma characteristics. The relative spectral line intensities of CH and atomic H to specific Ar lines were employed as a probe of their concentrations according to actinometry method. The full width at half maximum of atomic H was also employed. This method can be used as a probe of gas temperature via Doppler broadening effect. The DLC coatings were characterized using profilometry for thickness and stress measurements and Auger electron spectroscopy (AES) for structural analysis. There were two series of PLSR analysis carried out: The first analysis studies the correlation between process parameters and plasma characteristics, as derived by OES, for a better understanding of the plasma deposition process. The second analysis shows how the OES can be used for prediction of coating properties and for process monitoring. According to the results, the OES data (especially the parameters that are related to the concentration of atomic hydrogen and CH species) are able to represent some parts of process parameters (plasma power, mode and pressure) in a statistical model that is designed for predicting DLC coating properties. In other words, this means that this plasma diagnostic technique can be employed for in-situ monitoring of growing DLC coating properties, instead of using process parameters, which are related to the deposition reactor and may vary from one system to another. The perspective of using the OES data and the PLSR analysis in designing and monitoring a structurally gradient DLC coating is also discussed.en
dc.format.extent1 ressource en ligne (x, 87 pages)
dc.identifier.bacTC-QQLA-32783
dc.identifier.other32783
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/20.500.11794/27142
dc.languageeng
dc.rightshttp://purl.org/coar/access_right/c_abf2
dc.subject.classificationTN 7.5 UL 2016
dc.subject.rvmSpectroscopie optiquefr_CA
dc.subject.rvmSubstances amorphesfr_CA
dc.subject.rvmCouches mincesfr_CA
dc.subject.rvmRevêtement de surfacefr_CA
dc.subject.rvmCarbonefr_CA
dc.titleOptical emission spectroscopy as a process-monitoring tool in PECVD of amorphous carbon coatingsen
dc.typemémoire de maîtrise
dc.type.legacyCOAR1_1::Texte::Thèse::Mémoire de maîtrisefr
dcterms.publisher.locationQuébec
dspace.accessstatus.time2024-03-20 18:33:23
dspace.entity.typePublication
etdms.degree.grantorUniversité Lavalfr_CA
etdms.degree.nameMémoire. Génie des mines, de la métallurgie et des matériauxfr_CA
relation.isAdvisorOfPublication7431f385-946a-417b-b22c-e330b719ae3d
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relation.isResourceTypeOfPublication5324f3cf-6e18-4f28-a339-115c99bd2b34
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